离子注入
工艺介绍：离子注入（Ion Implantation）广泛应用于集成电路制造中。它通过将高能离子束注入到半导体材料中，改变材料的物理和化学特性，并且可以实现微纳米级别的器件尺寸控制和性能优化。
描述
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产品与服务
工艺介绍：离子注入（Ion Implantation）广泛应用于集成电路制造中。它通过将高能离子束注入到半导体材料中，改变材料的物理和化学特性，并且可以实现微纳米级别的器件尺寸控制和性能优化。
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