刻蚀
工艺介绍：刻蚀技术即在半导体材料表面或内部刻蚀出所需的结构或图案，以实现电子器件的功能，常用于刻蚀金属、氧化物、硅等不同材料，并且可以实现微纳米级别的精细结构。
描述
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