高精度Cr图形-激光直写
使用激光直写设备，加工小线宽大面积图形。半导体激光器波段：375nm、405nm；激光能量：300mW；He-Ne激光干涉仪分辨率：≤10nm；高精密激光图形发生器最小线宽：≤0.6μm。
描述
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产品与服务
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